华为近期有多个重磅产品即将发布，华为MateXT非凡大师即将登场，大概就是三折屏手机了。而结合华为非凡大师的超高端品牌定位，以及过往产品带来的顶配科技创新和技术，我们有理由相信，这款手机采用的是高端芯片。
——四重曝光工艺专利hw以其独特的四重曝光技术彻底改变了国际半导体产业的格局。这项名为"自对准四重图案化半导体装置的制作方法以及半导体装置"的专利技术，被誉为革命性的突破，将高端芯片制造推向了一个新的高度。
所谓四重曝光，顾名思义就是在一片晶圆上完成四次曝光的技术。这项技术的推出，意味着我们在较为落后的光刻工艺下也能够制造出先进的芯片。更重要的是，它突破了对EUV等先进设备的依赖，给国内半导体产业注入了强心剂。不再受制于他人，我们拥有了自主生产高端芯片的能力。相比单次曝光，需要更多的掩膜版来分步实现图形的精确转移。由于需要多次曝光和显影过程，光刻胶的消耗量会相应增加。对光刻胶的性能要求也会越来越高，如更高的分辨率、更低的线边缘粗糙度等，这也推动了光刻胶市场的增长。
以下是A股华为四重曝光技术概念股梳理：
华懋科技：徐州博康是国内主要的产业化生产中高端光刻胶单体的企业，是国际上先进的EUV光刻胶单体发明者、生产者，单体产品覆盖全球90%以上客户群，下游客户包括Intel、JSR等。
冠石科技：公司的光掩膜版制造项目预计将分别于2025年实现45纳米光掩膜版的量产，2028年实现28纳米光掩膜版的量产，全部达产后，年产半导体光掩膜版逾1.25万片。
国林科技：公司半导体产品下游应用领域主要包括半导体行业薄膜沉积，且SA?QP 多重曝光涉及大量光刻胶设备的清洗。
路维光电：公司一直致力于掩膜版的研发、生产和销售，产品主要应用于平板显示、半导体、触控和电路板等行业，是下游微电子制造过程中转移图形的基准和蓝本。
世名科技：公司投资建设“年产 56000 吨先进光敏材料及 1000 吨光刻胶纳米颜料分散液项目，8k显示光刻胶用的纳米分散液，说白了就是为国内做lcd光刻胶的企业提供核心材料。
至纯科技：某知名公司与其半导体设备伙伴企业至纯科技针对SA?OP(自对准四重图形)申请专利，可用于+2级别芯片生产，最极端情况下可用+3级别芯片工艺。
彤程新材：公司全资子公司彤程电子受让科华微电子33.70%的股权，已于2020年7月2日完成了相关工商变更登记。北京科华微电子成立于2004年8月，是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。
容大感光：公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品，主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。
清溢光电：公司生产的半导体集成电路凸块(IC Bumping)掩膜版,集成电路代工(IC Foundry)掩膜版等,主要应用于半导体芯片行业,主要客户有:士兰微,中芯国际等。
国风新材：国风新材主要涉及的产品是半导体封装用光敏聚酰亚胺(PSPI)光刻胶。
七彩化学：子公司绍兴上虞新利化工有限公司，正在进行“2000 吨/年光敏性中间体及600吨/年高性能光刻胶系列产品技改项目”
奥普光电：光华微电子产品包括被动元件生产设备、半导体前道制程设备、封装测试设备等翰博高新：SA?QP 对于掩模版增量最大，成都拓维公司及其子公司涉及大量设备清洗增量。

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